不顾老美反对！ASML一夜之间失去原有“自信”
在全球缺芯的状态下，是需要大量新建产能的，但前提是要有光刻机，否则是无法造出芯片的，虽然垄断了全球市场，但实际经营权并不在自己手中，无法给需要的客户提供产能，也让ASML陷入了尴尬的循环中。
目前各大芯片厂商，都在致力于研发全新的工艺，从而摆脱对于光刻机的依赖，为了缓解市场的走向，ASML唯有在更先进的工艺上持续发力，最新款的NA EUV光刻机，预计在2024年就能交付使用。
ASML不再“自信”了
目前老美已经通过了最新的芯片法案，此前的相关消息也得到了确认，接受补贴的企业，十年内不得在中、俄市场扩产、新建先进产能的计划，这已经从根本上影响到了ASML的出货量，但这并非最致命的。
在新规当中对先进工艺范畴进行了调整，先进工艺被界定为28nm以下，意味着14nm将被划定为先进工艺，而DUV光刻机是支持生产7nm以上工艺的，这很有可能针对的就是中国市场。
在芯片法案还没落地之前，老美就曾找到ASML商谈，要求把对特定市场的进出口限制，从EUV升级为DUV范畴，只不过这样的无理要求被直接拒绝了，于是乎老美又想出了这么一出。
可以说一夜之间，ASML没有了“自信”，EUV光刻机需求量有限已经成为了不争的事实，如果DUV光刻机再受限制的话，那就意味着彻底无缘中国市场了，在后续的市场份额上也得不到保证。
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