国产光刻机再突破！哈工大扛大旗，狠抽ASML脸
五、战局研判：基础学科重构框架，东大智慧震撼寰宇
此轮光刻大捷，其深远意义远超技术本身：
换道超车典范： 当传统路径被炮火封锁，东大科学家以深厚基础学科功底（物理、材料、精密机械）重构技术框架。哈工大DPP路线绕过ASML专利高墙，即是明证！此非追赶，乃另辟维度之“升维打击”！
速度碾压预期： 从光源突破到28nm量产，东大进展较西方预估快至少5年！ 哈工大三年走完ASML十年路的“中国速度”，令封锁者绝望。ASML总裁哀叹“封锁助推中国创新”，实为败局自白！
生态链觉醒： 设备（上微）、材料（禁运反制）、设计（中芯、华为）、代工（中芯）全链共振，“东大芯”生态正以惊人速度闭环。台积电所谓“2nm+5nm+7nm封装”的权宜之计，难掩其面对东大全链崛起的战略焦虑！
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