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中国自研光刻胶加速替换，5纳米即将投入使用

中国光刻胶实现替代进口，打破垄断局面

自研光刻胶成为中国进军先进芯片制造领域的重要突破之一。随着中国公司晶瑞电材成功量产KRF高端光刻胶并供应国内芯片企业，尤其是中芯国际，日本在光刻胶市场的垄断地位被彻底打破。

此外，南大光电已成功研发出5纳米光刻胶，并进入验证阶段，预计将实现量产。这一系列进展意味着，中国自主研发的光刻胶在14纳米及以下级别上已经具备供应能力，减少了对日本光刻胶的依赖，进一步巩固了中国芯片产业的自主生产能力。

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