清华大学提出了一个新思路,依托大型同步辐射光源的EUV“光刻厂”概念,把光刻机放大。利用稳态微聚束原理,从而获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射光。
这样完全可以做成通用光刻机,而且想要什么波段的光源,理论上都能实现。3nm,5nm,7nm都能轻松拿下。不少网友开玩笑,说中国是大力出奇迹,这其实是不准确的。因为这个加速器做光源也很难,不玩透高能物理是想不出来的。
现在中国的解决办法已经出来了,但是由于技术的原因,这个光刻厂还不能很快和我们见面。不过我们也不必太担心,中国速度相信大家也都有信心。现在中国已经拿出光刻厂的方案了,那这光刻厂和我们见面,也肯定就不远了。
美国还是珍惜点和盟友“吵架”的机会吧。到时候中国彻底解决了“卡脖子”的问题,美国能剩多少盟友还未可知。
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